行业新闻
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碳化硅陶瓷拨杆：耐熔融盐利器与工业应用耐熔融盐碳化硅陶瓷拨杆是专为高温腐蚀环境设计的关键部件，广泛应用于熔融氯化钠、硝酸钾等盐类的工业处理中。本文将从材料性能、对比优势、制造过程及应用领域四个方面进行系统分析，结合海合精密陶瓷有限公司的实践，阐述该制品的核心价值。碳化硅陶瓷的物理化学性能卓越，为其耐熔融盐特性奠定基础。物理性能方面，碳化硅具有高硬度（莫氏硬度约9.5）、高熔点（约2700°C）、低···
2026
02-11
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碳化硅复合材料：高端制造的“关键支撑”随着现代工业技术的蓬勃发展，陶瓷基复合材料的成形技术已成为全球科研人员关注的关键领域之一。在众多陶瓷基复合材料中，碳化硅（SiC）凭借力学性能优异、密度低、耐腐蚀、抗氧化性强、化学与热稳定性佳及摩擦磨损性能突出等多重优势，近几十年来持续吸引着广泛关注，成为极具应用潜力的新型材料。其应用场景已覆盖商业与军事系统的高功率微波器件、LED与MOSFET等电子器件、汽···
2026
02-09
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关于氮化硅（Si₃N₄）陶瓷制品在烧结过程中出现的 "烧不熟" 现象的原因
关于氮化硅（Si₃N₄）陶瓷制品在烧结过程中出现的 "烧不熟" 现象的原因氮化硅（Si₃N₄）陶瓷制品在烧结过程中出现的 "烧不熟" 现象，是陶瓷烧结工艺领域常见且亟待解决的技术难题。该行业术语特指制品经烧结后，未能达到预设的致密度、力学强度及综合使用性能，其典型表现为：坯体内部孔隙率偏高、结构疏松；常温及高温力学强度远低于设计标准；外观颜色异常（多呈现发黑···
2026
02-06
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氮化硅陶瓷烧结方式的研究一、烧结方式分类及特点氮化硅陶瓷的烧结方式可分为无压烧结、热压烧结、气压烧结及低温烧结等类型，不同工艺通过调控烧结温度、压力及添加剂体系实现材料致密化，最终形成具有特定显微结构与性能的陶瓷基体。无压烧结作为基础方法，依赖烧结助剂（如MgO、Y₂O₃、CeO₂等）的液相形成与表面扩散机制，促使颗粒间接触与晶界迁移。由于液相量不足或分布不均，该工艺易导致气孔残留，且材料内部可能···
2026
02-04
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氧化锆陶瓷氧化锆陶瓷是一种常见的特种陶瓷，其常温下力学性能尤其突出，有“陶瓷钢”之美称。不过，我们都知道，生产氧化锆陶瓷有一个关键点，就是一定要在其中加入“稳定剂”，使其能以四方相或立方相存在，否则坯体就会开裂，没法得到致密的陶瓷。背后的原因也是众所周知的，如果不加入稳定剂，那么氧化锆就会在低温下转变为单斜相，这种转变会伴随着明显的体积增大，所以在烧结降温过程中，坯体就会裂开，得不到完整的陶瓷件。···
2026
02-02
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氧化铝陶瓷表面粗糙度的研磨工艺优化1. 实验过程：研磨机理与工艺参数的系统探究氧化铝陶瓷的研磨是一个复杂的材料微量去除过程，其本质是硬质磨粒在机械作用下对陶瓷表面进行微破碎、微切削和微犁耕。这一过程的核心目标是在保证加工效率的同时，最大限度地抑制表面和亚表面的裂纹扩展，最终获得光滑平整的表面。1.1 研磨机理：从脆性去除到延性域去除的转变氧化铝陶瓷的材料去除机理主要受单颗磨粒所受的应力状态及切削深···
2026
01-30
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烧结活性与粉体特性关联一、烧结活性与粉体特性关联烧结活性作为衡量陶瓷粉体在烧结过程中形成致密材料能力的重要参数，与其微观结构特性之间存在显著的内在关联。粉体的粒径分布直接影响烧结动力学过程，细颗粒因具有更高的比表面积和表面能，在烧结初期易于发生颗粒重排与晶界扩散，从而在较低温度下实现快速致密化。细颗粒体系中晶界迁移与液相流动的协同效应，使得颗粒在重结晶阶段能更高效地填充孔隙。粉体的化学纯度与表面状···
2026
01-28
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半导体未来四大发展方向解析1、第三代半导体材料：功率器件的“升级革命” 随着新能源、5G通信、高端算力等终端需求的升级，功率半导体材料正迎来代际演进。从技术发展脉络看，半导体材料已从第一代硅基、第二代砷化镓，逐步迈向以氮化镓（GaN）、碳化硅（SiC）为代表的第三代宽禁带半导体。这类材料具有高击穿电场、高热导率、高电子迁移率等显著优势，能够在高压、高温、高频环境下实现更低的电能损耗。相比传统硅基器···
2026
01-26
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碳化硼陶瓷的烧结与应用，如何克服烧结难题？碳化硼（B4C）具有高熔点、超高硬度、低密度、耐磨损和耐腐蚀等独特的优异性能，在国防、核能、航空航天、机械、耐磨损技术等领域，正日益显示出其广阔的应用前景。碳化硼的晶格结构可看作立方点阵在空间对角线方向上延伸在每一角形成的规则二十面体，因而其结构十分稳定。但碳化硼密集的共价键让其自扩散系数极低、晶界迁移困难，导致其烧结性能差，致密化困难、断裂韧性低，极大限···
2026
01-23
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氮化硅研磨球的优劣势氮化硅研磨球的优势具有突破性，使其在高端与精密材料加工领域不可或缺；而其劣势则主要体现在实际应用的成本与工况限制上，因此难以作为通用型研磨介质广泛推广。用户在选择时，关键在于准确识别自身工艺中的真实需求与经济性平衡点，从而做出最适宜的技术决策。极致纯净，零金属污染本质：氮化硅（Si₃N₄）由硅（Si）、氮（N）两种非金属元素构成，化学组成中不含任何金属阳离子，是天生的 “无金属···
2026
01-21