一、概括

Cr靶材是由高纯度铬金属（≥99.95%）制成的溅射靶材，专用于物理气相沉积（PVD）工艺（如磁控溅射）。其优异的薄膜性能与工艺兼容性，使其在半导体、光学镀膜、装饰涂层等领域具有不可替代性。

二、性能特点

1.卓越的薄膜特性

•  强附着力：铬膜与玻璃、金属、聚合物基板结合力极强，是理想的粘附层材料；

•  硬度与耐磨性：薄膜硬度可达800-1000 HV，显著提升器件表面抗刮擦性能；

•  耐腐蚀性：在潮湿、盐雾及酸性环境中保持稳定，广泛用于防护涂层；

2.高效溅射性能

•  高溅射速率：高密度（≥7.2 g/cm³）、低氧含量（≤500 ppm）提升沉积效率；

•  均匀致密成膜：晶粒尺寸细小（≤30μm），膜厚不均匀性≤5%，适合大面积基板镀膜；

•  低颗粒缺陷：超高纯度（≥99.95%）减少溅射过程中的微颗粒污染；

3.化学与工艺兼容性

•  抗氧化性：在空气中形成致密Cr₂O₃钝化层，保护底层材料；

•  低温沉积能力：可在≤150℃低温下成膜，兼容塑料等热敏感基材；

•  优异刻蚀特性：与光刻胶刻蚀选择性高，图形化工艺简便；

三、应用领域

1.半导体与显示技术

•  金属化层：用作铜互连的扩散阻挡层（如Cu/Cr叠层），抑制铜原子迁移；

•  显示面板：TFT-LCD中的栅极/信号线镀膜，提升导电性与附着力；

•  光掩模：铬膜作为光刻掩模的遮光层，图形精度达亚微米级；

 2. 功能与防护涂层

•  耐磨涂层：工具、模具表面镀Cr，延长使用寿命（如注塑模具、切削刀具）；

•  防腐镀层：汽车零件、船舶部件表面防护，替代传统电镀铬；

•  航空航天：发动机部件抗高温氧化涂层（工作温度≤700℃）；

3. 高端光学与装饰领域

•  光学镀膜：相机镜头、AR镜片的减反射膜底层（增强膜层结合力）；

•  装饰镀层：珠宝、卫浴五金表面装饰（哑光铬、亮铬等多样化效果）；

•  太阳能电池：薄膜太阳能电池的背电极材料（如CIGS电池）；

4. 数据存储与传感器

•  硬盘介质：磁记录层的底层种子层，优化磁晶粒取向；

•  传感器电极：MEMS压力传感器、生物传感器的导电层；