一、概括

MoSi合金靶材是由高纯度钼（Mo）和硅（Si）通过精确配比制成的溅射靶材，专用于物理气相沉积（PVD）工艺（如磁控溅射）。其独特的电学性能、高温稳定性和良好的薄膜均匀性，使其在半导体集成电路、先进显示技术、高温防护涂层和光学功能薄膜等领域具有重要应用。

二、性能特点

1.优异的薄膜特性

• 低电阻率: MoSi薄膜具有较低的电阻率（通常为100–500 μΩ·cm），适用于高性能导电层需求。

• 高温稳定性: 在高温环境下仍能保持结构稳定，抗氧化性能强，可在高温工艺中保持性能。

• 良好的附着性: 与硅基、玻璃、氧化物等基材结合力强，适合作为过渡层或功能层。

2.高效的溅射性能

• 高溅射速率与均匀性: 靶材密度高（≥6.0 g/cm³），成分均匀，溅射成膜均匀致密，膜厚不均匀性可控制在≤5%。

• 低颗粒产生: 高纯度原料（≥99.95%）和精细的晶粒控制（通常≤50μm）有效减少溅射过程中的颗粒缺陷。

• 良好的工艺兼容性: 适用于DC磁控溅射、RF溅射等多种PVD工艺。

3.化学与功能兼容性

• 优异的抗氧化与耐腐蚀性: 在高温空气中表面可形成致密的SiO₂保护层，阻止进一步氧化。

• 刻蚀性能优良: 与常见光刻工艺兼容，干法及湿法刻蚀均可实现高精度图形化。

• 可调整的硅含量: 通过调整Mo/Si比例，可适配不同应用场景的电学与光学需求。

三、应用领域

1.半导体与微电子

• 栅极与互连材料: 用于集成电路中的栅电极和局部互连层，尤其适用于高温工艺。

• 扩散阻挡层: 有效阻挡金属原子扩散，提高器件可靠性与寿命。

2.光掩模与平板显示

• 相移掩模与EUV掩模: 用作先进光刻技术中的遮光层和反射层材料，支持高分辨率图形化。

• TFT阵列: 在OLED和LCD显示面板中用作栅极和信号线材料，兼具导电性与稳定性。

3.高温与防护涂层

• 高温抗氧化涂层: 用于航空发动机部件、高温炉元件等，在高温环境下提供抗氧化保护。

• 耐磨与防腐蚀涂层: 应用于工具、模具和关键机械部件的表面强化。

4.光学与能源领域

• 反射镜与光学涂层: 在极紫外（EUV）和深紫外（DUV）光学系统中用作反射膜和阻挡层。

• 太阳能电池: 作为薄膜太阳能电池中的背电极或窗口层材料，提升转换效率与长期稳定性。

5.传感器与功能器件

• MEMS器件: 用于微机电系统中的结构层与电极材料，具备良好的机械和电学性能。

• 红外光学元件: 适配于红外探测器和成像系统的功能性薄膜。