一、概括

钼（Mo）靶材 是以高纯度钼金属通过粉末冶金、热等静压或熔炼铸造工艺制成，专用于物理气相沉积、溅射镀膜等工艺的阴极材料。在真空腔室内，通过离子轰击使钼原子溅射沉积于基板表面，形成功能性薄膜层。

二、 性能特点

1. 优异的高温稳定性与机械性能

• 超高熔点：2623℃，可在高温溅射环境（300~800℃）中保持结构稳定性，抗热变形能力强；

• 高温强度：高温下仍保持高硬度和抗蠕变性，确保靶材在长时间工艺中无开裂或变形；

• 热膨胀系数（4.8×10⁻⁶/K）：与硅、玻璃基板热匹配性较好，减少薄膜热应力导致的脱层或裂纹；

2. 卓越的导电性与热管理性能

• 高电导率：提升溅射效率，降低工艺能耗；

• 高热导率：快速传导溅射热量，防止局部过热导致的靶材开裂或液滴飞溅，保障膜层均匀性；

3. 出色的薄膜沉积特性

• 低溅射率：需较高功率激发，但沉积膜层致密、附着力强；

• 高密度：减少溅射过程中的气孔与缺陷，提升薄膜纯度与致密性；

• 可控的晶粒尺寸：通过工艺优化实现细晶结构，减少溅射颗粒，提高膜层表面光洁度；

4. 化学稳定性与多功能性

• 耐腐蚀性：抵抗多数酸、碱及工艺气体（如O₂、N₂）侵蚀，适用于反应溅射（如沉积MoO₃、MoN）；

• 低氧亲和力：高温下不易氧化，维持高纯度金属膜特性（需控制腔体氧含量）；

5. 机械加工与寿命

• 可焊接性：可与铜背板可靠绑定，提升散热效率；

• 高耐磨性：延长靶材使用寿命，降低单位生产成本；

三、 应用领域

1. 半导体制造

• 互连与栅极材料：用于沉积Mo/MoN阻挡层； 

• 接触层：在OLED显示TFT背板中作为源/漏电极；

2. 平板显示（FPD）

•  TFT阵列电极：沉积Mo/Al/Mo叠层结构；

•  透明导电膜（TCO）支撑层：Mo背电极用于钙钛矿太阳能电池；

3. 功能性薄膜与涂层

•   耐磨涂层：工具镀膜（刀具、模具）中作为过渡层；

•   高温防护层：航空发动机部件表面沉积Mo合金涂层；

4. 新能源与光学器件

•  薄膜太阳能电池：CIGS（铜铟镓硒）电池的背电极材料；

•  红外反射镜：利用Mo的高红外反射率制作光学器件；