半導体産業はハイテク業界であり、技術の敷居が高く、生産額も高く、世界の半導体業界の今年の生産額は5000億ドルに達する見込みだ。半導体製造には先進的なフォトリソグラフィ機が必要であるだけでなく、材料もその重要な一環であり、主にシリコンシート、フォトレジスト、高純度試薬、CMP材料を含み、スパッタターゲットもその一つである。国内スパッタリングターゲット業界のトップ企業である江豊電子はこのほど、同社が7 nmプロセスノード用の金属スパッタリングターゲットのコア技術を習得したことを明らかにし、現在、顧客と評価について積極的に意思疎通している。

      高純度金属スパッタリングターゲットは主に純度99.9%から99.999%の金属ターゲットを指し、電子部品製造の物理気象堆積（PVD）技術に応用され、電子薄膜を製造する重要な材料である。スパッタリングは薄膜材料を製造する主要な技術の一つであり、それはイオン源から発生したイオンを利用して、真空中で加速凝集を経て高速エネルギーのイオンビーム流を形成し、固体表面を衝撃し、イオンと固体表面原子は運動エネルギー交換を発生し、固体表面の原子を固体から離れて基板表面に堆積させ、衝撃された固体はスパッタリング法で薄膜を堆積した原材料であり、スパッタリングターゲットと呼ばれる。

      江豊電子の資料によると、同社が生産した金属スパッタリングターゲットは主にアルミニウム、チタン、タンタル、タングステンチタンターゲットの4種類がある。それ以外に、会社が生産したその他の製品は銅ターゲット、ニッケルターゲット、コバルトターゲット、クロムターゲット、セラミックターゲットなどのスパッタリングターゲット及び金属蒸発材料、LCD用炭素繊維複合材料部品（主に炭素繊維支持、炭素繊維伝動軸、炭素繊維フォークアームを含む）などを含み、同時に会社はクライアントから回収したタンタルターゲット（タンタル環を含む）とチタンターゲット（チタン環を含む）などを販売し、そして顧客にリング部品の洗浄と改造サービスを提供する。

      現在、江豊電子が生産している金属ターゲットの純度は以下の通りである：

      金属スパッタリングターゲットにおいて、江豊電子は国内業界のトップであり、同社が8月29日に発表した2018年半年度報告によると、2018年上半期の営業収入は前年同期比18.11%増の2億9600万元、帰母純利益は0.25億元で、前年同期比19.48%増加した。しかし、スパッタターゲットを含む先進的な材料事業の2018年上半期の売上高は14億5500万ドルに達した。

      次世代プロセスに使用されるスパッタリングターゲットについて、江豊電子は本日、7 nmノードプロセスの金属スパッタリングターゲットのコア技術を把握したと発表し、現在、顧客と評価について積極的にコミュニケーションしているが、同社は具体的な詳細については言及していない。

      江豊電子の顧客には台積電、Globalfoundries、聯電、中芯国際などが含まれているが、現在7 nmノードでは台積電だけが量産されており、GF、聯電はすでに先進的な技術開発から撤退しており、中芯国際の7 nm技術はまだ初期の探索段階にある。

      また、7 nmプロセスを把握するための金属ターゲットは7 nmプロセスを把握するのとは異なり、ターゲットはプロセスの先進度に影響しない。また、半導体業界は新製品、新技術の受け入れに長い間認証テストの過程があり、江豊電子は初めて台積電サプライチェーンに参入した時に5-8年かかったが、現在の認証時間は1-2年に大幅に短縮されている。