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单相高纯:热压烧结碳化硅薄片性能优势与制造解析

2026-02-27 07:34:25

单相高纯:热压烧结碳化硅薄片性能优势与制造解析

高纯度热压烧结碳化硅(HPSC)陶瓷薄片,是先进结构陶瓷中综合物理性能最为均衡的材料形态。它通过同时施加高温与轴向压力,实现了碳化硅本征性能的极限释放,尤其在追求“零缺陷”微观结构的应用场景中,HPSC薄片已成为不可替代的技术选择。

物理化学性能:接近理论极限的致密体

热压烧结碳化硅的核心特征在于其近乎完美的致密性。相较于无压烧结碳化硅(SSiC)通常93%—98%的相对密度,HPSC可实现100%理论密度,晶粒尺寸被有效抑制在细晶甚至超细晶范围。这种微观结构赋予其极高的硬度——维氏硬度可达23—25 GPa,抗弯强度在添加纳米级β-SiC优化后可达450—700 MPa,断裂韧性较传统碳化硅提升至4.0—4.2 MPa·m¹/²左右。在化学纯度方面,采用高纯度微米级α-SiC(纯度>99.999%)与纳米β-SiC复配,通过热压烧结可制得纯度高达99.97%以上的制品,内部几乎不存在游离硅或氧化物玻璃相,晶界纯净。热物理性能方面,HPSC导热系数约130—170 W/m·K,热膨胀系数仅为4.2—4.3×10⁻⁶/K,抗热震参数达400 K以上,兼具优异的抗等离子体刻蚀与耐强酸碱腐蚀能力。

HPSC薄片在性能维度上呈现出清晰的技术取舍。与氧化铝陶瓷相比,HPSC硬度高出近50%,导热率提升4倍以上,热膨胀系数仅为氧化铝的一半,在热管理要求严苛的工况中具备根本优势。与氮化硅陶瓷相比,尽管氮化硅断裂韧性(6—7 MPa·m¹/²)占优、抗热震性更佳,但HPSC的室温硬度、弹性模量及导热率均明显领先,更适合以“抵抗形变与磨损”为首要目标的应用。在碳化硅家族内部,HPSC相比反应烧结碳化硅(RSSC)不存在游离硅相,因此使用温度不受硅熔点限制,且耐磨性与抗蠕变性全面胜出;相比无压烧结碳化硅,HPSC在同等晶粒尺寸下密度更高、强度离散度更低,且在极薄截面(厚度<1 mm)上仍能保持气孔率近乎为零。其代价是热压工艺的形状自由度低、生产效率有限、单件成本显著高于无压烧结与反应烧结路线。因此,HPSC薄片并非通用型“廉价陶瓷”,而是面向极端性能要求的“精品陶瓷”。

生产制造过程:高温与外压协同致密化

高纯度HPSC薄片的制造始于粉体工程。通常选用α-SiC粗粉与15 wt%左右纳米β-SiC复配,通过球磨与喷雾造粒获得流动性良好的球形颗粒料。成型环节采用模压结合冷等静压,确保薄片素坯密度均匀。核心工序在于热压烧结:将素坯置于石墨模具内,在氩气保护下升温至2100—2200°C,同时施加30—40 MPa的单轴机械压力。高温促进晶界扩散与物质迁移,压力则作为额外驱动力消除残留气孔。这一过程实现了液相烧结路线难以企及的“高致密+细晶粒”协同——纳米β-SiC填充颗粒间隙、提升烧结活性,而外加压力抑制晶粒异常长大。烧结后薄片通常为平板状,需通过金刚石精密磨削与双面抛光达到平面度≤0.01 mm、厚度公差±0.005 mm的尺寸要求。必须指出,该工艺依赖昂贵石墨模具,单炉产量有限,且难以直接成型复杂异形薄板,是技术壁垒所在。

生产制造过程:高温与外压协同致密化

高纯度HPSC薄片的制造始于粉体工程。通常选用α-SiC粗粉与15 wt%左右纳米β-SiC复配,通过球磨与喷雾造粒获得流动性良好的球形颗粒料。成型环节采用模压结合冷等静压,确保薄片素坯密度均匀。核心工序在于热压烧结:将素坯置于石墨模具内,在氩气保护下升温至2100—2200°C,同时施加30—40 MPa的单轴机械压力。高温促进晶界扩散与物质迁移,压力则作为额外驱动力消除残留气孔。这一过程实现了液相烧结路线难以企及的“高致密+细晶粒”协同——纳米β-SiC填充颗粒间隙、提升烧结活性,而外加压力抑制晶粒异常长大。烧结后薄片通常为平板状,需通过金刚石精密磨削与双面抛光达到平面度≤0.01 mm、厚度公差±0.005 mm的尺寸要求。必须指出,该工艺依赖昂贵石墨模具,单炉产量有限,且难以直接成型复杂异形薄板,是技术壁垒所在。

生产制造过程:高温与外压协同致密化

高纯度HPSC薄片的制造始于粉体工程。通常选用α-SiC粗粉与15 wt%左右纳米β-SiC复配,通过球磨与喷雾造粒获得流动性良好的球形颗粒料。成型环节采用模压结合冷等静压,确保薄片素坯密度均匀。核心工序在于热压烧结:将素坯置于石墨模具内,在氩气保护下升温至2100—2200°C,同时施加30—40 MPa的单轴机械压力。高温促进晶界扩散与物质迁移,压力则作为额外驱动力消除残留气孔。这一过程实现了液相烧结路线难以企及的“高致密+细晶粒”协同——纳米β-SiC填充颗粒间隙、提升烧结活性,而外加压力抑制晶粒异常长大。烧结后薄片通常为平板状,需通过金刚石精密磨削与双面抛光达到平面度≤0.01 mm、厚度公差±0.005 mm的尺寸要求。必须指出,该工艺依赖昂贵石墨模具,单炉产量有限,且难以直接成型复杂异形薄板,是技术壁垒所在。