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碳化硅:爆发新契机

2024-07-23 08:34:52

随着全球对于电动汽车接纳程度的逐步提升,碳化硅(SiC)在未来十年将会迎来全新的增长契机。SiC作为第三代半导体以其优越的性能,再掀风潮!


碳化硅:更小、更高效的化合物半导体材料
碳化硅(SiC)是由碳和硅组成的化合物,因此得名“化合物半导体”,作为第三代半导体材料的佼佼者,以其宽带隙特性,在高温、高频、高效率和高功率电子器件中展现出巨大的潜力,是未来半导体技术发展的重要方向。

碳化硅能够在较薄的耐压层上实现与硅相同的击穿电压,这为设计更小型化、更高效的电力电子器件提供了可能。碳化硅电子迁移率高,导电时电阻损耗低,这使得它们在功率转换应用中比硅更为高效,尤其是在高温、高频操作中表现出色。

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6英寸到8英寸的过渡推动

由于截至 2024 年开放 SiC 晶圆市场缺乏批量出货,因此 8 英寸 SiC 平台被认为具有战略性意义。SiC具有高击穿电场、高饱和电子速度、高热导率、高电子密度和高迁移率等特点,是良好的半导体材料,目前已经在汽车电子、工业半导体等领域有了较为广泛的应用。而在进入8英寸后,每片晶圆中理论上可用的裸片数量将大大增加。

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根据Wolfspeed财报说明上的数据,单从晶圆加工成本来看,从6英寸升级到8英寸,晶圆成本是增加的,但从8英寸晶圆中获得的优良裸片(die)数量可增加20%~30%,产量更高,最终的芯片成本将更低。因此大尺寸基板由于其成本优势,逐渐被人们寄予厚望。根据测算,从4英寸升级到6英寸预计单片成本可降低50%;从6英寸到8英寸,成本预计还能再降低35%。同时,8英寸基板可以生产更多芯片,从而减少边缘浪费。


全球8英寸SiC工厂加速扩张
随着衬底材料不断突破技术天花板,2023年全球8英寸SiC晶圆厂扩产规模再创新高。据TrendForce统计,2023年大约有12个与8英寸晶圆相关的扩产项目,另外,截至目前,全球大约有11座8英寸晶圆厂正在建设或规划中。

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尺寸更大

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微管缺陷密度

<0.15ea/㎡

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单晶片电阻率达到

0.016-0.024Ωcm


从厂商的扩张方向来看,电动汽车是SiC当前和未来的主要增长引擎,成为各大厂商扩产的重点。从成本角度来看,虽然短期内6英寸晶圆是主流,但为了降低成本和提高效率,8英寸等更大尺寸的趋势是不可避免的,因此,未来电动汽车市场预计将带动8英寸晶圆需求持续增长。从供应链角度来看,转向8英寸晶圆对于SiC制造商来说是一个突破,6英寸SiC器件市场已进入激烈竞争阶段,尤其是SiC JBD。对于规模较小、竞争力较弱的企业来说,利润空间日益受到挤压,预示着未来一轮整合重组即将到来。硅基半导体的发展历史证明,改用更大尺寸的晶圆可以提高生产率,这是越来越多厂商积极推进8英寸晶圆的主要原因之一。


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为推动碳化硅材料领域的高质量发展,碳化硅材料前沿技术与产业发展高峰论坛将于2024年8月27日在深圳隆重召开本次论坛汇集了来自碳化硅材料领域的顶尖专家、学者与行业领袖,就碳化硅材料的制备工艺、性能优化、应用拓展以及产业化发展等议题,重点针对碳化硅材料在高温、高频、高压等极端环境下的应用与创新方面,同与会嘉宾进行深入的交流与探讨,分享最新的科研成果和技术突破。为碳化硅产业的发展注入强劲动力,共同描绘碳化硅材料在未来的发展蓝图!